중국, 저해상도 DUV 리소그래피 기계 상용화 가속화 > 경제

1. 중국이 65나노미터 이상의 새로운 DUV 리소그래피 기계 상용화를 추진 중.
2. 중국 제조사 SMEE가 ASML의 장비와 격차를 메우기 위해 국산 장비 개발 중.
3. ASML의 최고 사양은 8나노미터의 해상도를 갖고 있음.
4. 중국 업계는 미국 수출 제한을 받아 발전을 위해 노력 중.
5. 중국의 반도체 제조 기술이 아직 정교함 수준에 이르지 못하고 있음.

[설명]
중국이 반도체 제조 기술을 국가 안보와 경제 발전에 중요한 요소로 보고 있어, 65나노미터 이상의 새로운 DUV 리소그래피 기계를 상용화하고 있습니다. ASML의 고급 기술에 대한 의존을 줄이기 위해 중국 제조사인 SMEE가 국산 장비를 개발하고 있지만, 아직은 기술적인 격차가 큽니다. 중국은 ASML의 DUV 리소그래피 시스템과 미국의 수출 제한으로 인해 어려움을 겪고 있지만, 국내 반도체 산업을 위해 노력하고 있습니다.

[용어 해설]
- DUV (Deep Ultraviolet) : 광학 리소그래피 공정 중 하나로, 반도체 제조에 사용되는 고해상도 레이저 장비.
- SMEE (Shanghai Microelectronics Equipment Group) : 상하이 마이크로일렉트로닉스 장비 그룹으로, 중국의 반도체 제조 장비 전문 기업.

[태그]
#China #반도체 #DUV리소그래피 #ASML #국산화 #반도체장비 #기술개발 #중국산업 #빅테크 #반도체수출제한 #정교한기술 #미국政

추천0 비추천 0