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SK하이닉스, ASML 하이 뉴메리컬애퍼처 EUV 장비 도입 검토

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작성자 TISSUE 작성일 24-11-15 17:29 댓글 0

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 SK하이닉스 ASML 하이 뉴메리컬애퍼처 EUV 장비 도입 검토

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1. SK하이닉스가 ASML의 최신 노광장비 '하이 뉴메리컬애퍼처 EUV' 도입을 검토 중.
2. '하이 NA EUV'는 반도체 회로를 더 세밀하게 그리는데 활용될 것.
3. 장비 중량은 150t으로 에어버스 A320 여객기 2대와 비슷하고, 가격은 약 5천620억원.

[설명]
SK하이닉스가 ASML의 최신 노광장비 '하이 뉴메리컬애퍼처 EUV' 도입을 검토 중이라고 밝혔습니다. 이 장비는 반도체 회로를 더 세밀하게 그리는데 활용될 것으로 예상되며, AI 응용프로그램과 첨단 소비재 전자제품용 칩 제조에 사용될 예정입니다. 장비의 중량은 150t으로 에어버스 A320 여객기 2대와 비슷하며, 가격은 약 5천620억원 정도로 알려졌습니다.

[용어 해설]
- 노광장비: 반도체 제조 공정 중 미세한 회로를 반사 또는 포항 시키기 위해 빛을 이용하는 장비.
- EUV: 극자외선 조사 현미경(EUV lithography)의 준말로, 반도체 제조를 위해 미세한 빛을 사용하는 기술.

[태그]
#SK하이닉스 #반도체 #ASML #EUV #노광장비 #반도체회로 #AI #칩제조 #투자 #기술혁신

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