인텔, 연례 VLSI 심포지엄에서 최첨단 인텔 3 공정 노드 소개 > 과학

1. 인텔이 VLSI 심포지엄에서 최신 인텔 3 공정 노드 세부 정보 발표
2. 인텔 3 노드, 최대 10% 더 높은 집적도와 18% 더 나은 성능 제공
3. 2021년 로드맵에 따라 인텔 3 노드 제조 준비 완료
4. 인텔 4 노드에 비해 더욱 혁신적인 기술을 도입

[설명]
인텔은 연롷 VLSI 심포지엄에서 최첨단 인텔 3 공정 노드에 대한 세부 정보를 공개했습니다. 이번 공정 노드는 이전 세대보다 최대 10% 더 높은 집적도를 제공하며, 전체 프로세서 코어에서 최대 18% 더 나은 성능을 보여줍니다. 또한 인텔은 2021년 로드맵에 따라 인텔 3 노드를 생산 준비를 완료했으며, 더욱 혁신적인 기술을 도입하여 성공적인 출시를 이어나갈 예정입니다.

[용어 해설]
- VLSI: Very Large Scale Integration의 약자로 대규모 집적 회로를 의미합니다.
- 공정 노드: 반도체 공정에서 사용되는 최신 소자나 회로를 만드는 기술적 특성을 가리키는 용어입니다.
- 집적도: 반도체 칩 내의 소자들이 밀도 있게 배치된 정도를 나타내는 지표입니다.

[태그]
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