인텔, 하이-NA 극자외선 장비 도입…미래 공정 기술 선점 > 과학

1. 인텔이 하이-NA 극자외선 노광장비를 업계 최초 도입
2. 하이-NA EUV로 1.8나노 공정에 장비 투입 예정
3. 회로 그리는 시간 단축될 것으로 예상

[설명]
미국의 반도체 기업, 인텔이 하이-NA 극자외선(EUV) 노광장비를 세계 최초로 도입하여 1㎚(나노미터) 대 공정 기술을 선점하고 있습니다. 이 장비는 회로를 인쇄하는 과정을 효율적으로 단축시켜 주며, 앞으로 인텔은 1.8나노 공정에 이 장비를 투입할 계획이라고 밝혔습니다.

[용어 해설]
- 하이-NA EUV(Extreme Ultraviolet): 반도체 회로를 제조할 때 사용되는 첨단 공정 장비
- 나노미터(nanometer): 10억분의 1m로 매우 작은 길이 단위

[태그]
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