"인텔, 고개구율 EUV 기술 도입 속도…" > 과학

1. 인텔이 2027년부터 1.4나노급 '인텔 14A' 공정에 고개구율(High-NA) EUV 기술을 적용할 예정이다.
2. ASML의 고개구율 EUV 장비 '트윈스캔 EXE:5000'을 인도받아 연구에 착수했다.
3. 이를 통해 선폭 10nm급 고개구율 EUV가 지연 없이 준비될 것으로 전망된다.

[설명]
인텔이 고개구율 EUV 기술 도입 속도를 높이기 위해 적극 노력 중이다. ASML과의 협력으로 고개구율 EUV 장비를 도입하여 1.4나노급 공정에 활용할 예정이며, 해당 기술이 향후 수 년간 지속될 것으로 예상된다. 인텔은 2025년부터 14A 공정 본격 연구에 착수할 예정이며, 미래 반도체 제조 기술 발전에 기대를 걸고 있다.

[용어 해설]
- 고개구율(High-NA) EUV: 극자외선을 이용한 높은 각도의 노광 공정 기술
- ASML: 반도체 장비 전문 기업

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