인텔, 하이-NA 극자외선 노광기 도입으로 1나노 경쟁 선두주자 등극 > 과학

1. 인텔이 하이-NA 극자외선 노광기를 도입해 1나노 반도체 생산에 성공했다.
2. 해당 장비는 삼성과 TSMC의 장비보다 2배 이상 비싸고 우월한 성능을 자랑한다.
3. 인텔은 앞으로도 하이-NA 기술을 바탕으로 외부 고객사에 제품을 공급할 예정이다.

[설명]
인텔이 하이-NA 극자외선(EUV) 노광기를 도입하여 1나노 반도체 생산에서 기술적인 우위를 점하고 있습니다. 이 장비는 삼성과 TSMC 등 경쟁사의 장비보다 더 비싸면서도 성능 면에서 우월함을 보여주고 있어, 인텔은 1.4나노 공정을 본격적으로 사용하기 시작할 것으로 예상됩니다. 미래에도 하이-NA 기술을 적극 활용해 외부 고객사에 제품을 공급할 계획이며, 현재까지 이미 다수의 고객사로부터 주문을 받았습니다.

[용어 해설]
- 하이-NA : 고초박 체로 반도체를 제작하는 데 사용되는 광학 노출 장비의 한 종류로, 과거의 EUV 방출 광학 장비보다 높은 해상도와 성능을 제공합니다.

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